专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种Ka波段双面铁氧体薄膜微带线环行器-CN201810814873.4有效
  • 郑辉;张飞;郑鹏;郑梁 - 杭州电子科技大学
  • 2018-07-23 - 2021-01-29 - H01P1/387
  • 本发明公开了一种Ka波段双面铁氧体薄膜微带线环行器,属于微波铁氧体器件领域。该环行器包括非磁性介质基片、基于镀膜工艺在所述介质基片的两面生长的铁氧体薄膜层、以及在其中一面的铁氧体薄膜层上形成的阻抗匹配微带线,另外一面形成的金属接地板。本发明在单面铁氧体薄膜环行器的基础上,改变环行器的结构形式,即在介质基片上下两面镀上铁氧体薄膜,这样不仅缓解了环行器对单层铁氧体厚膜的需求与单层铁氧体厚膜制作难度大之间的矛盾,同时大大提升了环行器的性能实验结果表明,适当厚度的双层铁氧体薄膜结构的环行器在经过阻抗匹配优化后,其带宽、插入损耗、隔离度、回波损耗等参数相比传统结构的单层铁氧体薄膜环行器都有明显的提升。
  • 一种ka波段双面铁氧体薄膜微带环行器
  • [实用新型]一种NFC天线模组-CN202022753339.2有效
  • 谢清林 - 深圳市信维通信股份有限公司
  • 2020-11-24 - 2021-09-21 - H01Q1/22
  • 本实用新型公开了一种NFC天线模组,包括未冲切的铁氧体、聚酰亚胺薄膜和银浆线圈;所述聚酰亚胺薄膜覆在所述未冲切的铁氧体的一侧;所述银浆线圈印刷于所述聚酰亚胺薄膜远离所述未冲切的铁氧体的一侧上;直接在铁氧体上印刷银浆而形成银浆线圈,避免了现有技术中单独加工线圈和铁氧体,再人工组装贴合的繁琐操作,成本较低且良率高,而鉴于印刷过程中温度高,适应性地在铁氧体银浆线圈之间增设聚酰亚胺薄膜,令银浆线圈印刷于聚酰亚胺薄膜,由于聚酰亚胺薄膜耐高温,印制线圈时不会对铁氧体造成影响,同时是在未冲切的铁氧体上进行银浆线圈的印刷,保证铁氧体在印制过程中不受影响,进一步保证所生成的NFC天线模组的良率。
  • 一种nfc天线模组
  • [发明专利]柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法-CN201810692387.X有效
  • 汤如俊;朱齐山;苏晓东 - 苏州大学
  • 2018-06-28 - 2020-06-12 - C23C14/08
  • 本发明公开了一种柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法,所述制备方法包括:S1、采用六角铁氧体粉末制备六角铁氧体靶材;S2、提供单晶基片,所述单晶基片作为薄膜制备的基底;S3、使用真空镀膜设备在单晶基片上外延生长六角铁氧体薄膜;S4、采用机械剥离法将单晶基片剥离,得到柔性六角铁氧体薄膜。本发明采用真空镀膜的方法在耐高温的单晶基底上生长高度择优取向的六角铁氧体薄膜,再通过机械法剥离耐高温单晶基片的方法成功制备柔性薄膜;柔性六角铁氧体薄膜具有可弯曲性,弯曲后磁性能基本没有改变,因此对于柔性器件具有潜在价值
  • 柔性六角铁氧体薄膜及其制备方法
  • [发明专利]无支撑铁氧体磁性薄膜的制备方法及其应用-CN202011060968.5有效
  • 金立川;张磊;武剑;张怀武;钟智勇;唐晓莉 - 电子科技大学
  • 2020-09-30 - 2022-03-15 - H01F41/14
  • 一种无支撑铁氧体磁性薄膜的制备方法及其应用,属于新材料技术领域。采用铜箔或镍箔作为牺牲层,通过生长致密耐高温氧化保护层,防止铁氧体薄膜生长过程中的铜箔或镍箔的高温氧化,在防氧化晶体择优取向的铜箔或镍箔上生长铁氧体磁性薄膜,最后通过化学法将铜箔或镍箔牺牲层去掉,获得了无支撑铁氧体磁性薄膜本发明方法可以生长超大面积的高品质铁氧体薄膜薄膜厚度可以实现纳米级到微米级变化,并且无需昂贵的提拉法生长单晶衬底,具有较高的经济效能;制得的无支撑铁氧体磁性薄膜可以转移至任意柔性衬底或半导体衬底上,得到铁氧体微波器件
  • 支撑铁氧体磁性薄膜制备方法及其应用
  • [发明专利]一种尖晶石型铁氧体薄膜及其制备方法-CN201810392411.8有效
  • 杨洋;余快;汪国平;丁军;肖文 - 深圳大学
  • 2018-04-27 - 2022-01-04 - C23C18/12
  • 本发明提供了一种尖晶石型铁氧体薄膜的制备方法,包括:将原料和衬底混合后进行升温处理再进行冷却,得到尖晶石型铁氧体薄膜;所述原料包括金属源、表面活性剂和溶剂。与现有技术相比,本发明采用化学方法制备得到尖晶石型铁氧体薄膜,本发明提供的方法制备得到的尖晶石型铁氧体薄膜的晶体结构质量高、无杂相,可制备得到厚度在几纳米至几百纳米的尖晶石型铁氧体薄膜,制备得到的尖晶石型铁氧体薄膜具有优异的磁性能本发明还提供了一种由上述技术方案所述的方法制备得到的尖晶石型铁氧体薄膜
  • 一种尖晶石铁氧体薄膜及其制备方法
  • [发明专利]一种c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法-CN200910059863.5无效
  • 彭斌;唐浩;张文旭;张万里 - 电子科技大学
  • 2009-07-01 - 2009-12-09 - H01F41/24
  • 一种c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法,属于材料技术领域,涉及钡铁氧体薄膜,尤其是c轴取向钡铁氧体薄膜的制备方法。硝酸钡溶于水和乙二醇的混合溶剂中,得到混合溶液A;然后取一定体积L的混合溶液A,并按0.05~0.20g/ml的比例加入PVP,溶解得到溶胶B;再将步骤2溶胶B旋涂于(001)晶向的蓝宝石基片上,形成薄膜C;再薄膜C进行干燥和热处理,即得到c轴取向钡铁氧体薄膜。本发明具有工艺流程简单、成本低,对生产设备要求不高的特点;并且可实现薄膜的成分的方便调节和膜层厚度的控制。本发明所制备的c轴取向钡铁氧体薄膜具有结构和性能上的各向异性,可用于磁记录介质材料、微波铁氧体器件中。
  • 一种取向铁氧体薄膜制备方法

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